原理是采用涡电流，并要求金属非磁性且表面不导电，当侧头与试样接触时，测头产生高频电流磁场，在基体金属中会感应出涡电流，此涡电流0产生的附加电磁场会改变测头参数，而测头参数的改变取决于与氧化膜相关的测头到基体的距离，然后经芯片分析得到数值。gb/t4957-1994和iso2360-1982阳极氧化厂，阳极氧化工艺，阳极氧化工艺，阳极氧化检测，金属阳极氧化，铝合金阳极氧化

随后，进行电解抛光，再借助电解抛光设备在电解抛光后的金相磨面上形成一层很薄的氧化膜，形成的氧化膜必需属光学各向---才能进行偏光研究。氧化膜结构与位向，必然对应于它底下晶粒的位向。氧化膜的组织结构、分布状况完全对应于铝合金晶粒的形貌特征，间接、如实地反映着膜层底下基体金属的组织结构分布形貌。阳极氧化厂，阳极氧化工艺，阳极氧化检测，金属阳极氧化，泰州阳极氧化，铝合金阳极氧化

iso2128-1976、gb/t8014.3-200x 损失法适用于膜厚大于10μmgb/t8014.2-200x、iso2016-1982。涡流法现有的膜厚计即为此种采用涡流法有快速、方便、非破坏性，因此应用很广，阳极氧化加工，原理是采用涡电流，并要求金属非磁性且表面不导电，当侧头与试样接触时，测头产生高频电流磁场。

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